Natječaji za upise

Natječaj za upis u I. godinu preddiplomskih i integriranih sveučilišnih studija te preddiplomskih stručnih studija Sveučilišta u Rijeci u 2018./2019. ak. god.

Natječaj za upis u I. godinu diplomskih sveučilišnih studija i specijalističkih diplomskih stručnih studija Sveučilišta u Rijeci i njegovih sastavnica u 2018./2019. ak. god.

Natječaji za radna mjesta

Natječaj za radna mjesta Odjela za fiziku Sveučilišta u Rijeci, srpanj 2018.   

Desetogodišnjica Odjela

Novi doktorski studij

Popularizacija fizike

Uredovno vrijeme

Uredovno vrijeme za studente je radnim danom od 12 do 14 sati. U navedenom vremenu vrata hodnika Odjela za fiziku (prizemlje i prvi kat) bit će otključana, dok ulaz na suteren studentima nije dozvoljen. 

Uredjaj za depoziciju atomskih slojeva (Atomic Layer Deposition, ALD)


 

Oprema je kupljena u sklopu projekta Razvoj istraživačke infrastrukture na kampusu Sveučilišta u Rijeci (RISK), koji je sufinancirala Europska unija iz Europskog fonda za regionalni razvoj.




Beneq TFS 200 ALD sistem s plazmom za PEALD i generatorom ozona

 

Opis:
Uređaj za depoziciju atomskih slojeva (ALD) je tehnika  koja se koristi za depoziciju tankih anorganskih filmova s velikom preciznošću kontrole debljine.
Namjena: ALD je tehnika depozicije iz pare kojom se mogu narastati tanki filmovi na površinama različitih podloga: planarnim objektima, poroznim materijalima i kompleksnim 3D objektima. Karakterističan ALD proces se sastoji od pulsiranja najčešće dva prekursora u plinovitoj fazi koji reagiraju s površinom podloge. Ovaj proces se ponavlja sve dok se ne postigne željena debljina filma. Zbog samoograničavajuće prirode ALD kemijskih procesa moguće je narastanje uniformnih slojeva jednake debljine bez obzira na geometriju supstrata, precizno kontroliranje sastava i debljine filma. U našem ALD sistemu najčešće se sintetiziraju oksidni tanki filmovi kao što su: ZnO, Al2O3, TiO2, SiO2 i nitridi: AlN, TiN, Si3N4
Tehničke specifikacije: Uređaj za depoziciju tankih filmova (ALD) – sistem Beneq TFS 200
  • Raspon temperatura sinteze: 25 – 500 °C
  • Maksimalne dimenzije uzorka (obična komora): promjer 200 mm, visina 3 mm. 
  • Maksimalne dimenzije uzorka (3D komora): promjer 200 mm, visina 95 mm. 
  • Sistem kapacitivne plazme (RF od 13,6 MHz, snaga plazme do 300 W).
  • Generator ozona (ozon se može koristiti kao izvor za ALD sintezu).
  • 4 tekuća spremnika prekursora spojena na sistem. 
Godina proizvodnje: 2015.
Izvor financiranja: EFRR projekt “Razvoj istraživačke infrastrukture na Kampusu Sveučilišta u Rijeci’’.
Kontakti: doc. dr. sc. Iva Šarić (+ 385 51 584 638, iva.saric@uniri.hr)