Novi doktorski studij

Popularizacija fizike

Uredovno vrijeme

Uredovno vrijeme za studente je radnim danom od 12 do 14 sati. U navedenom vremenu vrata hodnika Odjela za fiziku (prizemlje i prvi kat) bit će otključana, dok ulaz na suteren studentima nije dozvoljen. 

Uređaj za spektrometriju fotoelektrona x-zrakama

 O-S20


   Laboratorij je 2009. godine, sredstvima HZZ-a i MZOŠ-a, nabavio XPS spektrometar njemačkog proizvođača SPECS, opremljen sljedećim dodatnim uređajima:

 
  •          FOCUS 500 - monokromatizirani izvor X-zraka (Al Kalpha i Ag Lalpha),
  •          PHOIBOS 100 MCD-5 – 100 mm hemisferični analizator elektrona s detektorom od 5 kanala,
  •          IQE 11/35 – ionski top za niskoenergetske ione inertnih i reaktivnih plinova (0.3-5 keV),
  •          IQE 12/38 - ionski top,
  •          precizan XYZ manipulator nosača uzoraka s kontroliranim grijanjem i hlađenjem (LN2 – 800oC),
  •          turbo pumpa (Pfeiffer) i titanijeva sublimacijska pumpa (Hositrad) za glavnu komoru,
  •          turbo pumpa (Pfeiffer) za predkomoru,
  •          zatvoreni sistem vodenog hlađenja za izvor X-zraka i vakuumske turbo pumpe,
  •       FG 500 - elektronski top za neutralizaciju površine.
  •       Residual Gas Analyser (Prisma Plus QMG 220)

 

   Spektroskopija fotoelektrona x-zrakama (X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) ili elektronska spektroskopija za kemijsku analizu (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA) je analitička tehnika za proučavanje elementalne strukture i kemijskih stanja na površinskim slojevima uzoraka. Primjenjuje se na širokom spektru materijala, od metala i poluvodiča do organskih ili bioloških uzoraka i polimera.

    XPS se temelji na međudjelovanju x-zraka s atomima na površini uzoraka, koje uzrokuje emisiju fotoelektrona s površine. Energije fotoelektrona, koje se analiziraju u elektronskom analizatoru,  karakteristične su za pojedine elemente prisutne unutar volumena pobuđenja. XPS je izrazito površinska tehnika s dubinom uzimanja signala do 70 Å. Uz dodatak izvora ionskih snopova koji na kontrolirani način mogu uklanjati slojeve površine, XPS nalazi široku primjenu u dubinskom elementnom profiliranju uzoraka i mjerenju debljine i uniformnosti tankih filmova.

     Posebnost XPS tehnike leži u mogućnosti određivanja kemijskog stanja detektiranih elemenata na površinama, poput razlikovanja oksidacijskih stanja različitih elemenata.



alt