Natječaji za upise

Natječaj za upis u I. godinu preddiplomskih i integriranih sveučilišnih studija te preddiplomskih stručnih studija Sveučilišta u Rijeci u 2018./2019. ak. god.

Natječaj za upis u I. godinu diplomskih sveučilišnih studija i specijalističkih diplomskih stručnih studija Sveučilišta u Rijeci i njegovih sastavnica u 2018./2019. ak. god.

Natječaji za radna mjesta

Natječaj za radna mjesta Odjela za fiziku Sveučilišta u Rijeci, srpanj 2018.   

Desetogodišnjica Odjela

Novi doktorski studij

Popularizacija fizike

Uredovno vrijeme

Uredovno vrijeme za studente je radnim danom od 12 do 14 sati. U navedenom vremenu vrata hodnika Odjela za fiziku (prizemlje i prvi kat) bit će otključana, dok ulaz na suteren studentima nije dozvoljen. 

Uređaj za spektrometriju fotoelektrona rendgenskim zrakama



Laboratorij je 2009. godine, sredstvima HZZ-a i MZOŠ-a, nabavio XPS spektrometar njemačkog proizvođača SPECS, opremljen sljedećim dodatnim uređajima:
 
  • FOCUS 500 monokromatizirani izvor rendgenskih zraka (Al Kalpha i Ag Lalpha),
  • PHOIBOS 100 MCD-5 –  hemisferični analizator energije elektrona (promjera 100 mm) s detektorom od 5 kanala,
  • IQE 11/35 – ionski top za niskoenergetske ione inertnih i reaktivnih plinova (0.3 - 5 keV)
  • IQE 12/38 ionski top s fokusiranom ionskom zrakom i diferencijalnim pumpanjem,
  • precizan XYZ manipulator nosača uzoraka s kontroliranim grijanjem i hlađenjem (LN2 – 800oC),
  • turbo pumpa (Pfeiffer) i titanijeva sublimacijska pumpa (Hositrad) za glavnu komoru,
  • turbo pumpa (Pfeiffer) za predkomoru,
  • zatvoreni sistem vodenog hlađenja za izvor rendgenskih zraka i vakuumske turbo pumpe,
  • FG500 elektronski top za neutralizaciju površine,  
  • Residual Gas Analyser (Prisma Plus QMG 220)

 

   Spektroskopija fotoelektrona rendgenskim zrakama (X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) ili elektronska spektroskopija za kemijsku analizu (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA) je analitička tehnika za proučavanje elementalne strukture i kemijskih stanja na površinskim slojevima uzoraka. Primjenjuje se na širokom spektru materijala, od metala i poluvodiča do organskih ili bioloških uzoraka i polimera.

    XPS se temelji na međudjelovanju rendgenskih zraka s atomima na površini uzoraka, koje uzrokuje emisiju fotoelektrona s površine. Energije fotoelektrona, koje se analiziraju u elektronskom analizatoru,  karakteristične su za pojedine elemente prisutne unutar volumena pobuđenja. XPS je izrazito površinska tehnika s dubinom uzimanja signala do 70 Å. Uz dodatak izvora ionskih snopova koji na kontrolirani način mogu uklanjati slojeve površine, XPS nalazi široku primjenu u dubinskom elementnom profiliranju uzoraka i mjerenju debljine i uniformnosti tankih filmova.

     Posebnost XPS tehnike leži u mogućnosti određivanja kemijskog stanja detektiranih elemenata na površinama, poput razlikovanja oksidacijskih stanja različitih elemenata.



alt